并且他还根据后世设计，对工作台做了巨大改动，将惯常的一个工作台，改为了双工作台。
当一个工作台正在进行光刻工序时，另一个工作台则提前进行晶圆片更换、定位、微调、测量等前序工作。当那一个工作台完成光刻，两个工作台换位，立即就能进行下一道光刻工序，极大地提升了光刻效率。
光源部分，是唯一没有自造的。
毕竟汞灯只是光刻机光源，波长统一为365纳米，其制造难度并不是特别大。国际市场上的供应商很多，全面禁止对华出口的难度较大，很容易买到。
白云天为了省事，也就没自造，而是通过国内，直接购买了一套。
但是他还是做了小幅改进。
就是用将目镜浸入纯净液体中的方式，对光束波长进行一定幅度的折射，从而达到聚焦效果。
在后世，这叫浸入式光源。
现在各大光科技厂商正在就此技术，进行实验室研究阶段，尚未投入实用。
既然白云天手里有完整的技术，浸入式光源又能小幅改进光源聚焦，那又为何不用？
实际使用效果很好。
采用了浸入式光源技术以后，364纳米的光束波长被约束到了312纳米！
比之英特尔使用的350纳米技术，提升了近40纳米！
在白云天的亲自指导监督下，有李莲、华新等人直接
领导，光刻机的制造进度快得惊人，透镜、工作台子系统、光源等最大的技术难点，一一被轻松攻克。
经过两个月的技术攻关——其实就是逐步熟悉制造工艺，一台双工位，最大晶元刻蚀尺寸为200mm的光刻机就顺利建造完成，顺利得让所有参与制造的技术人员感觉如在做梦。
“这就做好了？”
当最后一块挡板合上，螺丝拧紧，对光刻机通电系统测试通过，白云天宣布光刻机研发成功，其他人还是不敢相信这个事实，不由窃窃私语。
连下料到解决一个个技术问题，制作出子系统，再到总装，两个月就做出一台这时代最先进的光刻机…
这可能吗？
就算国内光刻机厂家，有现成图纸、熟练工，做一台出来也不止这点时间吧。
“行不行咱们试试不就知道了。”白云天看着众人表情，笑了笑没有解释。
有他带着一-->>
本章未完，点击下一页继续阅读</p>种接受了高端制造技术知识注入的新人亲自参与，两个月制造一台光刻机算什么。
要不是没有专用机床设备，哪要得了两个月！
像专门制造光刻机的ASML，一年就要卖几十上百台光刻机出去。
两月一台？
这么慢的生产速度，早就破产倒闭了！
光刻掩膜板早就做好了，这是白云天、李莲亲自动手做的，达到了钢铁城当前技术极限。
掩膜并非只有一个，而是一套。
光刻是个工序多达上百道的漫长加工过程，一道工序，可能就只有极微小的改变。逐步刻蚀掉需要加工部位的光刻胶，然后通过沉积、离子注入等方式，在硅晶元基片上生成所需的元器件、连线等不同部件。
因此整个过程是支离破碎的，每一次光刻都只针对一道工序，经由数百道工序之后，才会制造出一个包含了所有晶体管、电阻、电容等各种元器件的裸晶片。
由于工序漫长，每一道工序的掩膜必须严格对准，误差不能超过几个纳米。否则就会出现错位，导致沉积、注入不到正确的位置，制造失败。
可想而知，掩膜版的精度要求是多么高。
从制成的掩膜版上，众人只能看到星星点点的点、和纵横交错的细线，根本不知道最终出来的电路是怎样的。
工序如此之长，当然不可能马上就得出结果。
研究人员虽然很好奇，但是他们还有别的研究工作要做，当白云天宣布光刻机研发成功，研制团队解散以后，他们也只能回到本来的岗位，继续完成上面交代下来的研究工作。
一个月后，白云天、李莲等人穿着一身连套防护服，眼看着一张亮晶晶的晶圆片完成最后一道工序，小心翼翼摆放到了他们面前。
这还只是裸晶片，还需要经过切割、封装，才是大众平常所见到的芯片。
得知众所期待的第一次试制完成，闻讯的研究人员们都放下手头工作，聚了过来。等级较高的研究人员穿上连套防护服，进了实验室，其他的人则站在玻璃墙外，好奇地看着白云天小心托在手中的晶圆片。
“白总，这是什么集成电路？”一名实验室副主任好奇地问道。
“一款处理器！”白云天没有继续保密，笑呵呵地解开了谜底。
“处理器！”
所有听到的人都眼睛一亮，在这些性格沉稳的研究员中，竟然发生了小小的骚动。
“难道这就是我们要研发的计算机，所用的处理器？”那几位有资格进入实验室的主任、副主任都激动起来，忍不住七嘴八舌问道。
处理器啊！